目前我国的试剂类规格基本上按纯度(杂质含量的多少)划分，共有高纯、光谱纯、基准、分光纯、优级纯、分析和化学纯等7种。国家和主管部门颁布质量指标的主要优级纯、分级纯和化学纯3种。

1.优级纯(GR：Guaranteed reagent)

又称一级品或保证试剂，99.8%，这种试剂纯度Z高，杂质含量Z低，适合于重要精密的分析工作和科学研究工作，使用绿色瓶签。

2.分析纯(AR)

又称二级试剂，纯度很高，99.7%，略次于优级纯，适合于重要分析及一般研究工作，使用红色瓶签。

3.化学纯(CP)

又称三级试剂，≥ 99.5%，纯度与分析纯相差较大，适用于工矿、学校一般分析工作。使用蓝色(深蓝色)标签。

4.实验试剂(LR：Laboratory reagent)

又称四级试剂。

纯度远高于优级纯的试剂叫做高纯试剂(≥ 99.99%)。高纯试剂是在通用试剂基础上发展起来的，它是为了专门的使用目的而用特殊方法生产的纯度Z高的试剂。它的杂质含量要比优级试剂低2个、3个、4个或更多个数量级。因此，高纯试剂特别适用于一些痕量分析，而通常的优级纯试剂就达不到这种精密分析的要求。

目前，除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、高纯的冰乙酸、高纯氢氟酸等)，大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，在名称上有高纯、特纯Extra Pure)、超纯、光谱纯等不同叫法。

除了上述四个级别外，目前市场上尚有： 

基准试剂(PT：Primary Reagent)：

专门作为基准物用，可直接配制标准溶液。

光谱纯试剂(SP：Spectrum pure)：

表示光谱纯净。

但由于有机物在光谱上显示不出，所以有时主成分达不到99.9%以上，使用时必须注意，特别是作基准物时，必须进行标定。

根据高纯试剂工业专用范围的不同，可将其分为以下几种： 

1.光学与电子学专用高纯化学品

即电子级试剂(EIectronicgrade)试剂。

2.金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品

即UP-S级或MOS试剂(读作：摩斯试剂)。一般用于半导体，电子管等方面，其杂质Z高含量为0.01-10ppm，有的可降低到ppb数量级，金属杂质含量小于1ppb，尘埃等级达到0-2ppb，适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。

3.单晶生产用高纯化学品。

4.光导纤维用高纯化学品。

此外，还有仪分试剂、特纯试剂(杂质含量低于1/1000000～1/1000000000级)、特殊高纯度的有机材料等。

5.等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade)

绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb，适合等离子体质谱仪(ICP Mass)日常分析工作。

6.等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade)

绝大多数杂质元素含量低于1ppb ，适合等离子体发射光谱仪(ICP)日常分析工作。

7.原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade)

绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ，适合原子吸收光谱仪(AA)日常分析工作。